國產突破，清洗設備龍頭首款KrF前段涂布顯影機出貨

9月8日，盛美上海宣布推出首款KrF工藝前段涂布顯影設備 Ultra Lith KrF，首臺設備已順利交付給國內一家頭部邏輯晶圓廠，這意味著國產前道光刻配套設備又向前邁了一步。

涂布顯影機是光刻環節必不可少的配套設備。

晶圓在進入光刻機之前，需要先在表面均勻涂上一層光刻膠，再經過涂布、預烘烤、顯影和后烘烤等環節，讓光刻圖案能夠被準確顯現出來。

如果沒有高性能的涂布顯影機，再先進的光刻機也無法發揮出應有水平。

圖源：盛美半導體設備

盛美上海此次推出的 Ultra Lith KrF采用完全自主創新的垂直交叉式架構，支持靈活的工藝模塊配置，配備12個旋涂腔和12個顯影腔（12C12D），并搭載54塊可精確控溫的熱板，能夠覆蓋低溫、中溫和高溫的工藝處理，保證了優異的熱均勻性。

該設備的產能超過每小時300片晶圓，并集成了盛美上海申請專利的背面顆粒去除模塊（BPRV），有效降低交叉污染的風險。同時，還配備了晶圓級異常檢測（WSOI）模塊，可以實時監控工藝偏差和良率異常，從而提升生產穩定性和效率。

圖源：盛美半導體設備

全球半導體設備市場長期由美、日、歐廠商主導，日本SCREEN一家就占據了超過一半的市場份額。相比之下，中國本土半導體設備企業起步較晚，很多核心技術曾高度依賴進口。

盛美上海是國內最早實現突破的企業之一，目前在全球清洗設備領域的市占率約為8%（2023年），在國內市場更是超過70%，產品覆蓋單片清洗、槽式清洗、電鍍設備等，并已進入臺積電、長江存儲等主流晶圓廠產線。

根據 QYResearch數據，2024年全球半導體涂布顯影機市場規模約為39.32億美元，預計到2031年將增長至62.13億美元，2025年至2031年的復合年均增長率為6.3%。

隨著KrF與ArF工藝需求的提升，這一領域未來幾年仍將保持強勁增長。